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上海微电子国产光刻机项目入选“上海设计100+”,获国内多项大奖

上海11选55月19日消息,上海微电子装备官方今日宣布,旗下的高亮度LED步进投影光刻机入选“上海设计100+”项目,据悉这次上海微电子装备从1200多个申报项目中突围,最终成功入选。

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上海11选5公开资料显示,上海微电子装备公司(SMEE)成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

本次入选的高亮度LED步进投影光刻机由上海微电子装备自主研发,是目前我国首台面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品。

高亮度LED步进投影光刻机的成功研发,可以满足HB-LED等领域单面或双面的光刻工艺需求,解决了LED产业大翘曲蓝宝石高分辨率、高拼接精度、大焦深、高产率的光刻需求,且支持蓝宝石键合片特殊工艺。

自高亮度LED步进投影光刻机成功研发以来,先后荣获“第十五届中国国际工业博览会铜奖”、“上海市专利新产品”、“第十三届(2018年度)中国半导体创新产品和技术奖”、工信部第四批“制造业单项冠军产品”等多项大奖。

 

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